H6-8型匀胶机机结构紧凑，具有先进的功能，设计为最容易安装在手套箱中的旋涂机。这款 650 系列 HL 涂布机系统 将 可容纳最大 200mm 晶圆和 7 英寸 × 7 英寸 （178mm×178mm）基板， 最大转速为 12,000 RPM （基于100mm硅片）。

用于 5G、光子学和 CMOS 的 Propel 300mm GaN MOCVD 系统 全自动单晶圆簇系统可在 300 毫米基板上生产 5G 射频、光子学和高级 CMOS 器件。

Propel HVM GaN MOCVD 系统，用于电源、5G 射频和光子学，单晶圆反应器技术为电源、5G 射频和光子学应用提供高效、高质量的氮化镓基器件

用于电池、太阳能和柔性电子产品的功能性原子层沉积涂层。 Genesis ALD 是涂布任何卷筒格式基材以及多种功能应用的理想选择。

适用于光电应用的 Lumina AS/P 金属有机物化学气相沉积 (MOCVD) 系统

Beneq TFS 200 是有史以来最灵活的原子层沉积研究平台，专为学术研究和企业研发而设计。Beneq TFS 200 经过专门设计，可最大限度地减少多用户研究环境中可能发生的任何交叉污染。 TFS 500 是薄膜镀膜应用的理想选择。作为第一个 Beneq 反应器模型，已被证明是用于深入研究原子层沉积研究和稳健批处理的多功能工具。TFS 500 是多项目环境的理想工具。