Beneq P1500 是我们最大的原子层沉积系统，专门用于涂覆大型板材和复杂零件。它还用于为较小组件的批次提供更高的吞吐量。我们的客户将 P1500 用于大直径基板上的光学镀膜、半导体设备部件的防腐镀膜，以及在玻璃或金属板上使用 ALD 的各种应用。

适用于硬偏置、引线、绝缘层和传感器堆栈沉积 数据存储制造商可以借助 Veeco 的第三代 NEXUS® 离子束沉积 （IBD） 系统大幅提高 80Gb/in2 传感器的产量，并满足未来 TFMH 设备制造的需求。

Beneq P800 专门设计用于涂覆复杂形状的大零件或大批量的小零件。我们的客户将 P800 用于光学镀膜、半导体设备部件的防腐镀膜，以及在玻璃或金属板上使用 ALD 的各种应用。

Beneq P400A 专为以优化的批量大小涂覆不同类型的基材而设计 - 足够大以提供显着的容量，但又足够小以在批次和较短的循环时间内保持出色的均匀性。我们的客户将 P400A 用于光学镀膜和在玻璃或金属板上使用 ALD 的应用。

光掩模制造需要高水平的颗粒控制，同时沉积复杂的多层薄膜结构。Veeco 的 Nexus IBD-LDD 离子束沉积系统可以应对这一挑战。自 1990 年代以来，Veeco 已成功服务于光掩模市场，多年的学习造就了当今先进的系统。IBD-LDD 系统是当今 EUV 掩模坯料上的钼 （Mo） 和硅 （Si） 多层沉积和钌 （Ru） 封端层沉积的理想选择，以及其他需要低缺陷水平和先进薄膜的掩模应用。

AP200/300 系列光刻系统基于 Veeco 的可定制 Unity 平台™构建，可提供覆盖层、分辨率和侧壁轮廓性能，并可实现高度自动化和具有成本效益的制造。这些系统特别适用于铜柱、扇出、硅通孔 （TSV） 和硅中介层应用。此外，该平台还具有许多特定于应用的产品功能，可实现下一代封装技术，例如增强的翘曲晶圆处理、双面对准和光学聚焦