KS-FT200/300系列堆叠式高产能前道涂胶显影机，为我司自主研发的突破晶圆前道28nm工艺节点及以上工艺制程，适用于ArF、KrF、I-Line、PI、BARC，SOC，SOD，SOG等多种材料涂覆显影工艺的机台。支持与光刻机联机作业。该系列机台通过各种行业认证，占地面积小、可靠性高、易于维护，满足各种功能芯片制程需求。

市场和应用 用于电池、太阳能和柔性电子产品的功能性原子层沉积涂层。 Genesis ALD 是涂布任何卷筒格式基材以及多种功能应用的理想选择。 各种类型锂离子和固态电池的阴极和阳极的钝化 用于柔性太阳能电池的导电层和封装 用于柔性电子产品的防潮层

超快速、高精度空间原子层沉积镀膜 Beneq C2R 是我们集群兼容设备系列的空间 ALD 成员。 Beneq C2R 将等离子体增强原子层沉积 （PEALD） 工艺提升到一个全新的水平 – PEALD 可用于大批量生产。由于采用等离子体增强旋转原子层沉积工艺，Beneq C2R 是厚原子层沉积膜的理想选择，甚至可达几微米。

TFS 500 是薄膜镀膜应用的理想选择。作为第一个 Beneq 反应器模型，已被证明是用于深入研究原子层沉积研究和稳健批处理的多功能工具。TFS 500 是多项目环境的理想工具。

Beneq TFS 200 是有史以来最灵活的原子层沉积研究平台，专为学术研究和企业研发而设计。Beneq TFS 200 经过专门设计，可最大限度地减少多用户研究环境中可能发生的任何交叉污染。大量的可用选项和升级意味着您的 Beneq TFS 200 将与您一起扩展，以满足研究要求。

Beneq Transform在其多功能性和适应性方面建立了全新的ALD集群工具产品，以满足广泛的应用和细分市场的需求。Beneq Transform 配置多个 ALD 工艺模块，以满足特定的晶圆容量要求，或者在以后进行升级，以响应不断增长的数量或新的 ALD 应用