Speed系列是高速版的无掩膜版紫外光刻机，其无掩膜光刻机配备了先进的高速空间光调制器以及高功率紫外激光器。这一系列的光刻机不仅保证了高精度和高灵活性，更在这一基础上，拥有了更高的光刻效率。其的性能特点使其特别适合小批量生产的场景。在该场景中，它能够发挥出其高效的优势，为生产带来更高的效率和更好的质量。Speed 系列为相关产业提供了更优质的选择，满足了市场对于高效率、高质量生产的需求

ACA系列是科研版的无掩膜版紫外光刻机，其基于空间光调制技术，实现了数字掩膜光刻，灵活性使其成为科学研究。设备搭载长寿命、高功率的紫外光源，设备稳定，上手简单。其的原位光绘和交互式套刻指引功能，让光刻和套刻更加容易和精准。ACA系列设备为科研工作提供了强大的支持，助力科学研究领域的发展和创新。

ULTRA激光掩模光刻机 是专门用于成熟半导体光掩模的合格激光掩模机。半导体光掩模用于制造电子设备，包括微控制器、电源管理、LED、物联网 （IoT） 和 MEMS。 ULTRA 是一种经济型光刻机解决方案，具有高吞吐量、精度和结构均匀性以及极其精确的对准所需的所有特性和功能。标准配置包括全自动掩模处理、Zerodur® 平台、低失真光学元件和高精度位置控制等功能。

PG 300 DI 是一款体积图案发生器，专为在 i 线光刻胶中直接写入高分辨率微结构而设计。它源自掩模制作工具，具有所有先进的 VPG 系统组件，能够以最高的精度和准确度进行书写。最大写入区域覆盖 300 mm 晶圆。 VPG 300 DI 系统的目标用途主要是学术和工业研究与开发，这些领域需要高灵活性和小于 2 μm 的特性。该系统可满足各种应用的需求，包括产品原型制作、MEMS、与其他工具的

VPG 200 / VPG 400 体积图形发生器是光刻系统，专为 i-line 光刻胶的多用途掩模制造而设计。它们支持所有标准的中小型面罩尺寸，最大尺寸为 410 x 410 mm++2.应用包括 MEMS 掩模制造、先进封装、3D 集成、LED 和 OLED 掩模以及微流体。 VPG 具有经过现场验证的超高速曝光引擎和高功率 DPSS 激光器。其技术将高分辨率、准确性和出色的图像质量与高吞吐

DWL 2000 GS / DWL 4000 GS 激光光刻系统是快速、灵活的高分辨率图形发生器。它们针对工业级灰度光刻进行了优化，设计用于集成电路、MEMS、微光学和微流体器件、传感器、全息图以及防伪特征的掩模和晶圆的高通量图案化。 专业灰度光刻模式可以在大面积的厚光刻胶中对复杂的 2.5D 结构进行图案化。最小特征尺寸为 500 nm，写入区域最大为 400 x 400 mm