Kurt J. Lesker Company （KJLC） ALD150LE™是我们但极其灵活的原子层沉积 （ALD） 系统，专为入门级到中级用户而设计。该ALD150LE™配置为纯热原子层沉积，工艺室设计促进了均匀的母离子分散和输送。加热和温度控制进一步增强了系统性能。总体而言，该ALD150LE™在紧凑的设计中提供了的灵活性和性能，而不会牺牲可维护性。

Kurt J. Lesker Company （KJLC） ALD150LX™是一种原子层沉积ALD 系统，专为高级研发 （R&D） 应用而设计。创新的ALD150LX设计功能，如我们的前驱体聚焦技术™，以及我们超高纯度 （UHP） 工艺能力等进步技术，提供了灵活性和性能。

概述 针对有机材料沉积进行了优化 多达 12 个 LTE 信号源;1cc、10cc或35cc容量 主体与掺杂剂比 1000：1 多达 4 个热蒸发源 基板快门 自动基板、掩膜存储和更换 高温计端口 手套箱接口设计，带滑动前门和滑动后门 KJLC eKLipse™ 控制软件 速率控制分辨率 0.05Å/s 基于配方的基于 PC 的系统控制 低温泵高真空泵 2位闸阀

Kurt J. Lesker Company 的有机薄膜沉积和金属化系统和金属 SPECTROS™ 150 是基于主力 SPECTROS 平台的下一代薄膜沉积系统。SPECTROS平台是一种成熟、坚固和多功能的设计。SPECTROS建立在原始设计的成功基础上，改进了系统基础压力和抽空时间。腔室设计、具有高级编程功能的行业最佳软件控制系统、实时配方线程操作以及用于优化薄膜性能的众多功能。

Kurt J. Lesker Company Mini SPECTROS™是基于主力SPECTROS平台的下一代薄膜沉积系统。SPECTROS平台在全球拥有100多台设备，是一种成熟、坚固和多功能的设计。Mini SPECTROS建立在原始设计的成功基础上，改进了系统基础压力和抽空时间。技术的腔室设计、具有高级编程功能的行业最佳软件控制系统、实时配方线程操作以及用于优化薄膜性能的众多功能，这些

Kurt J. Lesker Company® NANO 36™ 溅射或热蒸发薄膜沉积系统是我们优化的入门级沉积系统。我们的腔室设计特别适合手套箱集成。NANO 36 具有更高的功能和更小的占地面积，提供了实惠的价格点，同时保持了您期望从 KJLC 获得的质量。