等离子增强化学气相沉积PECVD(1) 应用方向：高质量PECVD沉积氮化硅和二氧化硅，用于光子学、电介质层、钝化以及诸多其它用途；用于高亮度LED生产的硬掩模沉积和刻蚀(2) 电阻丝加热电极，最高温度可达400°C或1200°C(3) 实时监测清洗工艺， 并且可自动停止工艺(4) 晶圆最大可达200mm，可快速更换硬件以适用于不同尺寸的晶圆。

槽式湿法刻蚀清洗设备 应用领域：RCA清洗，湿法去胶，介质层湿法刻蚀，金属层湿法刻蚀，炉管前清洗等

充氮型程控烤胶机 产品性能： 1.充氮烤胶机是在普通基础上增加密封盖和氮气注入口，保证氮气均匀通入烤胶机内部形成惰性气体保护气氛。 2.充氮烤胶机最高温度可达到300℃，可实现控温在±0.2℃以内，温度分辨率在0.1℃，表面温度均匀性小于1%的精确控温

实验型匀胶机 技术参数： 1.适用基片尺寸：小于1cm小碎片及到8寸标准晶圆，非标准基片可定制载物盘 2.自动滴胶功能 3.支持去边、背洗、匀胶、显影、清洗、控温等功能模块个性化定制 4.转速范围：20-10000rpm 5.转速分辨率：±1rpm 6.加速度可调范围：20-50000rpm/s 7.单步时长：3000s 8.时间分辨率：0.1s