Kurt J. Lesker Company® NANO 36™ 热蒸发薄膜沉积系统是我们优化的入门级沉积系统。我们的腔室设计特别适合手套箱集成。NANO 36 具有更高的功能和更小的占地面积，提供了实惠的价格点，同时保持了您期望从 KJLC 获得的质量。

用于高级研究的先进能力 Veeco 是原子层沉积 （ALD） 系统供应商，为研究和工业提供全面的服务和多功能的交钥匙系统，这些系统易于访问、经济实惠且精确到原子尺度。薄膜沉积是我们的专长。我们的 Savannah® 系列薄膜沉积工具就是这些能力的例证。

Phoenix®系统经过精心设计，可在从中试生产到工业级制造的任何制造环境中实现高吞吐量和最长的正常运行时间。技术人员和研究人员依靠 Phoenix® 在平面和 3D 基板上实现可重复、高精度的薄膜沉积。Phoenix®支持多达6条独立的前驱体生产线，可根据您的薄膜需求提供固体、液体或气体工艺化学成分。紧凑的占地面积和创新的设计使Phoenix®成为具有批量生产ALD要求的人们的实用选择。

GEN2000® MBE 系统提供吞吐量、更长的活动周期、更小的占地面积和集群工具晶圆处理。它是 HBT 和 pHEMT 等无线通信设备大批量生产以及需要以低拥有成本生产 6 英寸的新兴应用的理想选择。

Veeco 的 GEN200® MBE 系统是当今市场上具成本效益和高容量的多 4 英寸生产 MBE 系统。该系统在用于泵浦激光器、VCSEL 和 HBT 等设备的生长中提供吞吐量、长时间的加工周期和出色的晶圆质量。

Veeco 的 GEN20™ MBE 系统是一种超灵活的工具，其设计可针对 III-V 族和新兴材料进行配置，包括需要集成电子束技术的应用。该系统采用生产设计技术，允许可选的集群工具晶圆传输系统，以实现理想的实验室到晶圆厂迁移。