Laurell的EDC-650-8B匀胶机结构紧凑，具有先进的功能。这款650系列EDC系统将可容纳最大200mm晶圆和7英寸×7英寸（178mm×178mm）基板。虽然这个系统有12,000RPM的能力带真空压紧装置，建议仅用于3,000RPM和非真空吸盘。

Laurell的EDC-650-23B型匀胶机结构紧凑，具有先进的功能。这款650系列EDC系统将可容纳最大150mm晶圆和5英寸×5英寸（127mm×127mm）基板。虽然这个系统有12,000RPM的能力带真空压紧装置，建议仅用于3,000RPM和非真空吸盘。

Laurell的WS-650-15B型匀胶机结构紧凑，具有先进的功能。这款650系列系统将可容纳高达300mm的晶圆和9英寸×9英寸（229mm×229mm）基板，最大转速为12,000RPM（基于100mm硅片）。

产品概述： 高真空脉冲激光溅射薄膜沉积系统主要由真空室、旋转靶台、基片加热台、工作气路、抽气系统、安装机台、真空测量及电控系统等组成。 设备用途： 脉冲激光沉积(Pulsed Laser DeposiTION，简称PLD)是新近发展起来的一项技术，继20世纪80年代末成功地制备出高临界温度的超导薄膜之后，它的优点和潜力逐渐被人们认识和重视。该项技术在生成复杂的化合物薄膜方面得到了非常好的结果。

产品概述： 高真空脉冲激光溅射薄膜沉积系统主要由溅射真空室、旋转靶台、抗氧化基片加热台、工作气路、抽气系统、安装机台、真空测量及电控系统等部分组成。 设备用途： 用于制备超导薄膜、半导体薄膜、铁电薄膜、超硬薄膜等。广泛应用于大专院校、科研院所进行薄膜材料的科研。

产品概述： 高真空磁控溅射与离子束复合薄膜沉积系统可用于制备光学薄膜、电学薄膜、磁性薄膜、硬质保护薄膜和装饰薄膜等，工艺性能稳定、模块化结构，采用可行软件控制系统。 设备用途： 用于纳米级单层及多层功能膜、硬质膜、金属膜、半导体膜、介质膜等新型薄膜材料的制备。可广泛应用于大专院校、科研院所的薄膜材料的科研项目。