四探针电阻率测试仪的应用：半导体材料、太阳能电池材料(硅、多晶硅、碳化硅等)，新材料、功能材料(碳纳米管、DLC、石墨烯、Ag纳米线等)、导电薄膜(金属、离子等)，扩散层，硅相关外延材料，离子注入样品。

冷热冲击试验箱 技术参数： 1. 温度范围：周围环境温度+50 +200℃ -70~0℃ 3温区 2. 高温曝露到+200℃：15分钟以内 3. 常温曝露：5分钟 4. 低温曝露：-65℃15分钟

高低温(湿热) 试验箱 产品概述： 1. 新型冷冻机的使用，实现了大范围、高精度的温湿度控制 2. 40 模式可编程控制器、具有多种语言选择、试验数据U 盘存储 3.故障追溯功能、试验箱发生故障之前的运行状态会被自动记录并保存

立式高温试验箱简述：满足各种产品、零部件及材料在高温恒温环境下贮存、运输、使用时间适应性试验要求。采用定值和程序两种控制。定值控制可进行自动开始结束设定，适合于生产线热处理干燥处理。程序控制可进行10个模式，每个模式20步的程序设定。满足有温度上升、下降斜率设定的温度特性试验。

工业显微镜简介： 1. 支持通过光学显微镜或图像测量仪（如Nikon NEXIV），对直径为6英寸（150mm）和8英寸（200mm）的半导体晶圆的创新设计和材料进行检测。 2. 半导体晶圆装载机系列，能够将直径为6英寸（150mm）和8英寸（200mm）的晶圆转移到厚度为100微米（工厂制造选项）的尼康Eclipse L200N和LV150N显微镜或NEXIV VMZ-S视频测量仪器上。

超景深显微镜概述：本套系统主要用于材料表面形貌的观察；平面或三维测量。可采用3D观测模式，对被测物形状，粗糙度，表面积等进行测量，可以做高度，宽度，横截面，角度，R值，表面积，体积，线粗糙度，面粗糙度等的测量分析。同时可以做材料断口、金相的观测,陶瓷，微流道，微加工，现代加工制造,MEMS研究，微纳制造等。