Nikon NSR 2005i8A 1、Nikon NSR 2005i8A步进式光刻机 光源波长365nm 分辨率优于0.5µm 主要用于2寸、4寸、6寸、8寸生产线 广泛应用于化合物半导体、MEMS、LED等领域 2、产品详情 主要技术指标 分辨率0.5µm N.A.0.6 曝光光源365nm 倍率5:1 最大曝光现场20mm*20mm 对准精度LSA：120nm FIA：130nm

1、Nikon NSR 1755/1505i7A/B步进式光刻机 光源波长365nm 分辨率优于0.6µm 主要用于2寸、4寸、6寸生产线 广泛应用于化合物半导体、MEMS、LED等领域 2、产品详情 主要技术指标 分辨率0.6µm N.A.0.6 曝光光源365nm 倍率5:1 最大曝光现场15mm*15mm 17.5mm*17.5mm 对准精度140nm

Nikon NSR G线光刻机 1、Nikon NSR G线步进式光刻机 光源波长436nm 分辨率优于0.65µm 主要用于2寸、4寸、6寸生产线 广泛应用于化合物半导体、MEMS、LED等领域 2、产品详情 主要技术指标 分辨率0.65µm N.A.0.6 曝光光源436nm 倍率5:1 最大曝光现场15mm*15mm 17.5mm*17.5mm 对准精度140nm