等离子增强化学气相沉积PECVD

1. 产品概述

等离子增强化学气相沉积PECVD

2. 应用方向

高质量PECVD沉积氮化硅和二氧化硅，用于光子学、电介质层、钝化以及诸多其它用途；用于高亮度LED生产的硬掩模沉积和刻蚀

3. 技术参数

(1) 电阻丝加热电极，最高温度可达400°C或1200°C

(2) 实时监测清洗工艺， 并且可自动停止工艺

(3) 晶圆最大可达200mm，可快速更换硬件以适用于不同尺寸的晶圆

(4) 高导通的径向（轴对称）抽气结构：确保提升了工艺均匀性和速率

(5) 增加了<500毫秒的数据记录功能：可追溯腔室和工艺条件的历史记录

(6) 通过前端软件进行设备故障诊断，故障诊断速度快

(7) 用干涉法进行激光终点监测：在透明材料的反射面上测量刻蚀深度 (例如硅上的氧化物)，或者用反射法来确定非透明材料 (如金属) 的边界

(8) 用发射光谱（OES）实现较大样品或批量工艺的终点监测：监测刻蚀副产物或反应气体的消耗量的变化，以及用于腔室清洗的终点监测

4. 企业简介

深圳市矢量科学仪器有限公司是集半导体仪器装备代理及技术服务的高新技术企业。

致力于提供半导体制程工艺装备、后道封装装备、半导体分析测试设备、半导体光电测试仪表及相关仪器装备维护、保养、售后技术支持及实验室整体服务。

公司已授实用新型权利 29 项，软件著作权 14 项，是创新型中小企业、科技型中小企业、规模以上工业企业。