一、产品概述：

离子研磨系统是一种用于样品表面精密处理的设备，利用离子束对材料表面进行刻蚀和抛光。该系统广泛应用于材料科学、电子工程及显微镜样品制备等领域，能够实现高质量的表面平整度和光滑度。

二、设备用途/原理：

·设备用途

离子研磨系统主要用于制备电子显微镜样品、改善材料表面的特性以及去除表面缺陷。工程师和研究人员可以利用该系统进行材料的表面分析和处理，以确保样品在后续测试中的可靠性和准确性。

·工作原理

离子研磨系统通过产生高能离子束并将其聚焦到样品表面，利用离子束的轰击作用去除表面材料。系统可以调节离子束的能量、角度和处理时间，以实现不同深度和形状的表面处理。通过精确控制这些参数，用户可以获得所需的表面光滑度和特性，确保样品在显微镜观察或其他测试中的高质量表现。

三、主要技术指标：

1. 为了对样品内部结构进行观察、分析，必须让样品内部结构显露出来，日立离子研磨装置使用大面积低能量的Ar离子束，加工出无应力损伤的截面，为SEM观察样品的内部多层结构、结晶状态、 异物解析、层厚测量等提供有效的处理方法

2. 制成的低损伤的截面便于表层以下内部结构分析

3. 适用样品：电子元件如IC芯片、PCB、LED等（多层、裂

4. 痕、孔洞分析）、金属（EBSD晶体结构、EDS元素分析、镀 层）、高分子材料、纸、陶瓷、玻璃、粉末等

5. 可移动的样品座可精确定位、实现对特定位置的研磨

6. 大样品: 宽20 mm× 长12 mm× 厚7 mm

7. 联用样品台在机械研磨、离子研磨、SEM观察（Hitachi机型）之间不用更换样品台