脉冲激光沉积镀膜机PLD

1. 产品概述

脉冲激光沉积镀膜机PLD 系统主要由真空室、旋转靶台、基片加热台、工作气路、抽气系统、安装机台、真空测量及电控系统等部分组成。

2. 设备用途

脉冲激光沉积镀膜机PLD 是一种利用激光高能量脉冲辐射冲击固体靶时，激光与物质之间的所有物理相互作用，亦包括等离子羽状物的形成，其后已熔化的物质通过等离子羽状物到达已加热的基片表面的转移，及最后物质沉淀在不同的衬底上，得到沉淀或者薄膜的一种手段。PLD非常适合生长多元氧化物的多层膜和异质膜，轻松实现对化学成分较复杂的复合物材料进行材料生长。在生长过程中还可以实现引入活性或惰性及混合气等工艺气体，以提高薄膜生长品质。

3. 技术参数

基片尺寸：8inch（可向下兼容）

加热温度：1000℃   加热方式：辐射加热

靶材：3*4"

真空度：5*10-7Pa

气路系统：氧气、氮气、氩气

模块：PLD+进样室

激光窗口：配有闸板阀

光路系统：激光扫描功能

4. 企业简介

深圳市矢量科学仪器有限公司是集半导体仪器装备代理及技术服务的高新技术企业。

致力于提供半导体制程工艺装备、后道封装装备、半导体分析测试设备、半导体光电测试仪表及相关仪器装备维护、保养、售后技术支持及实验室整体服务。

公司已授实用新型权利 29 项，软件著作权 14 项，是创新型中小企业、科技型中小企业、规模以上工业企业。