一、产品概述：

CIF臭氧中和器系统是一款用于半导体制造和其他工业应用中的先进设备，专门设计用于去除工艺过程中产生的臭氧。该系统利用化学反应将臭氧转化为无害的氧气，从而有效降低环境中的臭氧浓度，确保操作安全和环境合规。CIF臭氧中和器具有高效的反应速率和稳定的性能，能够在各种工艺条件下持续运行。凭借其紧凑的设计和易于集成的特点，CIF臭氧中和器系统广泛应用于清洗、刻蚀和薄膜沉积等半导体制造环节，帮助提高生产效率并保护设备和人员安全。

二、设备用途/原理：

·设备用途

CIF臭氧中和器系统主要用于半导体制造、化学处理和其他工业领域，专门用于去除工艺过程中产生的臭氧。它广泛应用于清洗、刻蚀和薄膜沉积等环节，以确保操作环境的安全性和合规性，保护设备和人员免受臭氧的危害。

·工作原理

该系统通过化学反应将臭氧转化为无害的氧气。首先，臭氧气体被引入中和器，随后通过催化剂或化学反应介质与臭氧发生反应。该反应将臭氧分解为氧气，显著降低其浓度。CIF臭氧中和器设计紧凑，能够在各种工艺条件下高效运行，确保臭氧浓度保持在安全水平。该系统的高效性和稳定性使其成为现代工业中的重要设备。

三、主要技术指标：

1.臭氧分解催化剂分解效率大于99%。

2.隔膜泵抽气效率：10L/min。

3. 电源：220V/50/60Hz/20W。

4. 整机尺寸：280(W)×168(D)×180 (H) mm。

四、产品特点

1.采用无毒，不燃烧、活性高、寿命长的纳米金属氧化物的臭氧分解催化剂，能在室温状态下将高浓度的臭氧快速分解为氧气。

2. 采用大流量、高负压、低噪音无刷隔膜泵加速臭氧流动，使得臭氧分解。

3. HEPA高效过滤器应用，有效保护隔膜泵不被催化剂损