一、产品概述：

Nikon S205C 扫描式光刻机是一款高效能的半导体制造设备，专为 200mm 晶圆的生产设计。该机型采用先进的扫描光刻技术，能够实现高分辨率和精确的图案转移，广泛应用于集成电路、微处理器和存储器等电子元件的制造。凭借其快速曝光速度和良好的稳定性，S205C 非常适合大批量生产，同时其用户友好的操作界面和自动化功能也降低了操作难度，提升了生产效率。这使得 Nikon S205C 成为现代半导体制造过程中重要工具，满足行业对高质量和高效率的需求。

二、设备用途/原理：

该设备通过高强度光源将掩模上的图案投影到涂有光刻胶的晶圆表面。光源发出特定波长的光线，经过高分辨率光学系统，将掩模图案精确扫描并投影到晶圆上。曝光后，光刻胶的化学性质发生变化，随后进行显影，去除未曝光或已曝光的光刻胶，从而形成所需的图案。接着，采用刻蚀工艺将图案转移到晶圆材料上，最后去除残留的光刻胶。这一系列步骤使得 Nikon S205C 能够高效地实现复杂图形的精确转移，满足现代半导体制造的高标准要求。

三、主要技术指标：

四、设备特点

Nikon S205C扫描式光刻机

光源波长248nm

分辨率优于0.15µm

主要用于8寸及12寸生产线

广泛应用于化合物半导体、MEMS、LED等域