一、产品概述：

Nikon S308F 扫描式光刻机是一款高性能的设备，专为先进半导体制造而设计，适用于 300mm 晶圆的生产。该机型采用了先进的扫描技术和高分辨率光学系统，能够实现精准的图案转移，满足现代集成电路和微机电系统的制造需求。其快速的曝光速度和高生产效率使其适合大批量生产，同时用户友好的操作界面和自动化功能也降低了操作难度。凭借其稳定性和可靠性，Nikon S308F 在复杂的制造环境中表现出色，广泛应用于半导体行业。

二、设备用途/原理：

该设备以其高分辨率和高效的曝光能力，确保了在先进制造领域的应用。该设备利用高强度光源将掩模上的图案投影到涂有光刻胶的晶圆表面。首先，光源发出特定波长的光线，通过高分辨率的光学系统，扫描掩模并将其图案精确投影到晶圆上。曝光后，光刻胶的化学性质发生变化，接着进行显影过程，去除未曝光或已曝光的光刻胶，形成所需图案。随后，利用刻蚀工艺将图案转移到晶圆材料上，最后去除残留的光刻胶。通过这种方式，Nikon S308F 能够高效地实现复杂图形的精确转移，满足现代半导体制造的需求。

三、主要技术指标：

四、设备特点

Nikon S308F扫描式光刻机

光源波长193nm

分辨率优于0.07µm

主要用于4寸、6寸、8寸及12寸生产线

广泛应用于化合物半导体、MEMS、LED等域