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1. 产品概述
HORIC L200 系列 卧式 LPCVD 气相沉积系统，半导体客户端机台装机量大,可根据客户需求配置多工艺组合的机台。可提供先进成熟的 MES 系统解决方案.优异的工艺技术支持。
2. 设备用途/原理
HORIC L200 系列 卧式 LPCVD 系统，半导体客户端机台装机量大。可根据客户需求配置多工艺组合的机台。高可靠性、稳定性 Higher reliability and stability。安全性能高：设备及所使用的元件符合国标和国际标准。可提供先进成熟的 MES 系统解决方案。优异的工艺技术支持。
3. 设备特点
晶圆尺寸 4、6、8 英寸，适用材料硅、碳化硅、硅基氮化镓。适用工艺 氮化硅、氧化硅、多晶硅、掺杂多晶硅、磷硅玻璃、硼磷硅玻璃。适用域 科研、化合物半导体。
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