碳化硅高温氧化炉

简要描述：VERIC A6151A 碳化硅高温氧化炉，适用于碳化硅高温激活 & 退火的设备,最高温度 2000℃，升温速率可达 100℃/min,石墨电阻加热，工艺腔室洁净。

产品型号：VERIC A6151A
厂商性质：经销商
更新时间：2024-09-05
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详细介绍

1. 产品概述

VERIC A6151A 碳化硅高温退火炉,适用于碳化硅高温激活 & 退火的设备。

2. 设备用途/原理

VERIC A6151A 碳化硅高温退火炉，适用于碳化硅高温激活 & 退火的设备，高温度 2000℃，升温速率可达 100℃/min。石墨电阻加热，工艺腔室洁净。自动装片，Cassette to Cassette。SEMI S2/S6 认证。

3. 设备特点

晶圆尺寸 4/6 英寸兼容，适用材料碳化硅、氮化铝，适用工艺注入后激活、Ar 退火、Ar/H2 退火、沟槽平滑，适用域科研、化合物半导体。百科：退火炉的原理‌主要涉及通过控制加热和冷却过程中的温度和时间，以改变半导体材料的性质或结构，从而实现对材料的精确控制和优化处理。这种设备通常被称为RTP（Rapid Thermal Processing）快速退火炉。RTP退火炉的关键特点包括快速升温、保持温度、冷却阶段以及气体控制。