8英寸立式炉

简要描述：FLOURIS 201系列 8英寸立式炉，高精度温度场控制技术，可实现 1200℃ 内氧化退火工艺。

产品型号：FLOURIS 201系列
厂商性质：经销商
更新时间：2024-09-05
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详细介绍

1. 产品概述

FLOURIS 201系列 8英寸立式炉，高精度温度场控制技术，可实现 1200℃ 内氧化退火工艺。

2. 设备用途/原理

FLOURIS 201系列 8英寸立式炉，高精度温度场控制技术，可实现 1200℃ 内氧化退火工艺，先进的颗粒控制技术，优良的膜厚均匀性控制技术，图形化操作界面和群组管理系统。

3. 设备特点

晶圆尺寸 8 英寸，适用材料硅、碳化硅。适用工艺高温氧化、退火、常压合金、Polyimide 固化。适用域科研、化合物半导体、集成电路。百科：半导体立式炉‌的原理主要涉及到半导体材料的热处理过程，这一过程在半导体制造中至关重要。立式炉的设计允许对半导体材料进行精确的温度控制和气氛管理，从而促进材料的特定化学反应，如外延生长等。