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1. 产品概述
WE3102系列 12英寸槽式清洗设备,可配备 i-Clean 多药液工艺槽,支持 DN unit, DIO3 等附属功能。
2. 设备用途/原理
WE3102系列 12英寸槽式清洗设备,可配备 i-Clean 多药液工艺槽,支持 DN unit, DIO3 等附属功能。软件量身定制,具备快速更新能力,较高的温度控制稳定性,超高的补水精度,精准的蚀刻速率控制,优秀的干燥效果。
3. 设备特点
晶圆尺寸 12 英寸,适用材料 光阻、单晶硅、多晶硅、氧化硅、氮化硅、金属膜、金属氧化物。适用工艺 炉清洗、刻蚀 / 抛光后清洗、光阻去除、金属氧化物去除、氮化物去除、控挡片回收。适用域 新兴应用、集成电路。
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