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1. 产品概述
ELEDE® 380系列 芯片刻蚀机，先进的等离子体发生装置，适用多种材料刻蚀，工艺窗口宽。
2. 设备用途/原理
先进的等离子体发生装置，适用多种材料刻蚀，工艺窗口宽。多片式托盘，实现高产能，同时确保优异的刻蚀均匀性。全路径全真空，全自动晶圆传输，颗粒控制优。工艺套件设计，更长的耗材寿命。
3. 设备特点
晶圆尺寸4、6 英寸及特殊尺寸。适用材料 蓝宝石、氮化镓、氧化硅 / 氧化钛、砷化镓、磷化镓、铝镓铟磷、氧化硅、氮化硅、钛钨、有机物。适用工艺 PSS 刻蚀、电刻蚀、深槽隔离刻蚀、介质反射层（DBR）刻蚀、红黄光刻蚀、钝化层刻蚀、金属阻挡层刻蚀。适用域化合物半导体。
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