等离子体增强CVD系统

简要描述：PD-330STC是一种低温(80 ~ 400°C)、高速(>300 nm/min)的等离子体增强CVD系统，可用于大规模生产。Samco的液态源CVD系统采用自偏置沉积技术和液态TEOS源，以低应力沉积SiO2薄膜，从薄膜到厚的薄膜（高达100 µm）。该系统通过采用大气盒装载和ø300毫米晶圆的优良工艺均匀性，实现了高产量。

产品型号：PD-330STC
厂商性质：经销商
更新时间：2024-09-04
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1. 产品概述

PD-330STC是一种低温(80 ~ 400°C)、高速(>300 nm/min)的等离子体增强CVD系统，可用于大规模生产。Samco的液态源CVD系统采用自偏置沉积技术和液态TEOS源，以低应力沉积SiO2薄膜，从薄膜到厚的薄膜（高达100 µm）。该系统通过采用大气盒装载和ø300毫米晶圆的优良工艺均匀性，实现了高产量。

2. 设备用途/原理

塑料材料上保护膜的沉积在3D LSI的通孔侧壁上沉积绝缘膜。光波导的制造（光纤芯/包层）。制造用于微型机械生产的面罩。覆盖高纵横比结构，如MEMS器件。TCSAW器件的温度补偿膜和钝化膜。

3. 设备特点

沉积范围达ø300 mm（12"）。阴耦合自偏析沉积技术可以实现低应力薄膜的高速（>300 nm/min）沉积。通过低温沉积，可以在塑料表面上沉积薄膜。高纵横比结构的优秀阶梯覆盖率。使用锗、磷、硼液源控制折射率。优异的工艺均匀性和可重复性。

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