等离子体刻蚀设备

简要描述：高密度等离子体刻蚀设备系统采用电感耦合等离子体作为放电形式。该系统配备了真空盒室，是一套完整的生产系统，具有优良的工艺重复性和稳定性。

产品型号：RIE-800iPC
厂商性质：经销商
更新时间：2024-09-06
访问量： 157

产品咨询联系我们

产品分类

Product Category

详细介绍

1. 产品概述

高密度等离子体蚀刻系统采用电感耦合等离子体作为放电形式。该系统配备了真空盒室，是一套完整的生产系统，具有优良的工艺重复性和稳定性。

2. 设备用途/原理

GaN、GaAs、InP等化合物半导体的高精度加工。SiC、SiO₂的高速加工。蚀刻铁电材料（PZT、BST、SBT、SBT）、电材料（Pt、Au、Ru、Al）和其他难以蚀刻的材料。複合式半導體晶片的等離子切割和薄型化。

3. 设备特点

新的ICP源 "HSTC™: Hyper Symmetrical Tornado Coil"。可高效稳定地应用高射频功率（2千瓦以上），并实现良好的均匀性。大流量排气系统，排气系统直接连接到反应室，可以实现从小流量和低压范围到大流量和高压范围的广泛工艺窗口。下电升降机构，晶片和等离子体之间的距离经过优化，以确保良好的平面内均匀性。易于维护的设计，TMP(涡轮分子泵)集成在设备中，便于更换。

产品咨询

等离子体刻蚀设备

留言框

产品：

您的单位：

您的姓名：

联系电话：

常用邮箱：

省份：

详细地址：

补充说明：

验证码：