等离子体（ICP）刻蚀设备

简要描述：RIE-230iPC是以电感耦合等离子体为放电方式，高速进行各种材料的超精细加工的盒式ICP蚀刻系统。该系统通过采用龙卷风式线圈电，高效地产生稳定的高密度等离子体，实现了对硅、各种金属薄膜和化合物半导体的高精度各向异性蚀刻。此外，ø230mm的托盘可同时处理多种化合物半导体。

产品型号：RIE-230iPC
厂商性质：经销商
更新时间：2024-08-27
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详细介绍

1、公司介绍

深圳市矢量科学仪器有限公司成立于 2020年，由武汉大学团队孵化，致力泛半导体实验线、中试线、生产线装备及工艺和厂务技术服务于一体的国家高新技术企业、创新型中小企业、科技型中小企业。

公司主要业务如下:

装备销售:半导体道制程工艺装备、后道封装装备、半导体分析测试装备、半导体光电测试仪表。

设备服务:驻场或者 oncall，装备维护、保养、售后技术支持。

厂务服务:驻场或者 oncall，人力服务及厂务二次配工程。

经历五年高速发展，2023 年营业额达 3.2 亿，连年复合增长率达 300%，现处于稳定扩张期。

2、成长历程

•2020年（公司成立年）

•2300万订单额

2021年 7000万订单额

2022年 2.5亿订单额

2023年3.2亿订单额

ICP-RIE等离子体蚀刻设备 RIE-230iPC

量产设备

概要

RIE-230iPC是以电感耦合等离子体为放电方式，高速进行各种材料的超精细加工的盒式ICP蚀刻系统。该系统通过采用龙卷风式线圈电，高效地产生稳定的高密度等离子体，实现了对硅、各种金属薄膜和化合物半导体的高精度各向异性蚀刻。此外，ø230mm的托盘可同时处理多种化合物半导体。

主要特点和优点

龙卷风线圈电
　它能有效地产生稳定的高密度等离子体，使蚀刻具有高选择性、高精度和良好的均匀性。
低损伤工艺
　通过ICP产生高密度的等离子体，实现了低偏置、低损伤的工艺。
温度控制
　电调和He冷却的平台和反应室内侧壁的温度控制使蚀刻在稳定的条件下进行

应用

GaN、GaAs、InP等化合物半导体的高精度加工。
铁电材料和电材料的加工。

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