紫外线臭氧清洗机

简要描述：UV-1是一款紧凑型台式紫外线臭氧清洗机。该系统将紫外线照射、臭氧和平台加热结合在一起，温和而有效地去除硅、玻璃、化合物半导体（GaN、GaAs、InP、SiC）、蓝宝石、陶瓷等各种基材上的有机物。

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UV-1是一款紧凑型台式紫外线臭氧清洗机。该系统将紫外线照射、臭氧和平台加热结合在一起，温和而有效地去除硅、玻璃、化合物半导体（GaN、GaAs、InP、SiC）、蓝宝石、陶瓷等各种基材上的有机物。

· 最大加工尺寸为ø100 mm（4英寸）。

· 加热阶段加快了清洗速度，实现了宽广的工艺温度范围。

· 紧凑，使用最小的台式空间

· 简单，在大气压下操作--不需要真空系统。

· 柔软、干燥的工艺不会对基材造成电损伤。

· 盖子联锁保证了当盖子打开时，系统无法运行。

· 臭氧催化剂装置，用于将废气中的臭氧浓度降低到安全水平。

· 安全性能自动N₂净化循环、加热级保险丝保护、臭氧洗涤器和紧急停止开关。

· 塑料包装和引线框架的表面清洁。

· 复合半导体(GaN、GaAs、InP和SiC)的表面清洗。

· 表面改性（润湿性和附着力的改善

· 表面氧化(薄氧化层沉积)

· 光阻剂的灰化、剥离和除尘。

· 清除有机污染物

· 紫外线固化

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