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1. 产品概述
Batch式高真空蒸发设备ei系列是可对应在基板上成金属膜或氧化物膜的设备。可通过操作面板实现抽真空、成膜等作业内容的集中自动化操作，适用于研究开发及少量生产。
2. 设备用途/原理
Power Device等化合物相关。LED、LD、高速device。各种实验用。其他各种电子部件。
3. 设备特点
可搭载多样蒸发源（EB、电阻式、EB+电阻式）。对应不同制程可选多种基板holder（lift-off、行星式、卫星式等）。φ2 in〜 6 in基板、矩形基板、Si、化合物、glass、陶瓷灯各种基板对应。液晶触控板集中现实操作。集成电脑拥有优异的操作性和性能（recipe功能、data-logging、maintenance assistant功能）。
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