欢迎来到深圳市矢量科学仪器有限公司网站!
咨询热线

19842703026

当前位置:首页  >  产品中心  >  半导体前道工艺设备  >  3 CVD  >  CCV系列纵向式Cat-CVD设备

纵向式Cat-CVD设备

简要描述:纵向式Cat-CVD设备CCV系列CCV Series是a-Si镀膜用的纵向式CVD设备。有30年以上的量产实绩。在各个chamber通过低压镀膜,得到高品质的膜质。

  • 产品型号:CCV系列
  • 厂商性质:经销商
  • 更新时间:2024-09-06
  • 访  问  量: 209

详细介绍

1 产品概述:

      纵向式Cat-CVD设备可以视为Cat-CVD技术的一种应用形式,其特点可能在于反应室或气体流动路径的设计上采用了纵向布局。这种设计可能有助于优化气体的流动和分布,提高反应效率和薄膜沉积的均匀性。设备通常包括反应室、气体供应系统、催化系统、温度控制系统和真空系统等关键部件。在反应室内,通过精确控制反应气体的化学组成、流量、温度和压力等参数,利用催化剂促进气体分子的化学反应,最终在基底上沉积出高质量的薄膜材料。

2 设备用途:

纵向式Cat-CVD设备的用途广泛,主要集中在以下几个领域:

  1. 半导体制造:用于生长高质量的绝缘层、介质层或导电层,如SiO2SiNx等,以满足半导体器件的性能要求。

  2. 光伏产业:制备硅基太阳能电池、薄膜太阳能电池等光伏器件的关键材料,如硅薄膜、CIGS(铜铟镓硒)、CdTe(碲化镉)等,提高光伏器件的光电转换效率和稳定性。

  3. 光电器件:用于制备光电探测器、光电传感器等光电器件的薄膜材料,满足光电子技术的需求。

3 设备特点

纵向式Cat-CVD设备的特点可能包括以下几个方面:

  1. 高效性:利用催化剂促进化学反应,提高反应速率和薄膜沉积效率,缩短生产周期。

  2. 高质量:通过精确控制反应条件,制备出高纯度、低缺陷的薄膜材料,满足高性能器件的需求。

  3. 灵活性:适用于多种材料的薄膜制备,且可通过调整工艺参数实现薄膜性质的精确调控。

  4. 环保性:在制备过程中使用的气体和化学品通常较为环保,减少了对环境的影响。


产品咨询

留言框

  • 产品:

  • 您的单位:

  • 您的姓名:

  • 联系电话:

  • 常用邮箱:

  • 省份:

  • 详细地址:

  • 补充说明:

  • 验证码:

    请输入计算结果(填写阿拉伯数字),如:三加四=7
Baidu
map