批次式溅射设备

1 产品概述:

   批次式溅射设备通常具有较大的处理腔室，能够同时处理多个基片或大面积基片。设备内部配备有精密的靶材安装系统、基片旋转装置、真空系统以及控制系统等关键部件。在工作时，设备首先通过真空系统抽除腔室内的空气，达到所需的真空度，然后通入工作气体（如氩气）并施加电压，使气体电离产生高能粒子。这些高能粒子轰击靶材表面，将靶材原子或分子溅射出来，并沉积在旋转的基片表面，形成均匀的薄膜。

2 设备用途：

批次式溅射设备在多个领域具有广泛的应用，主要包括：

1. 光学领域：用于制备光学镜片、滤光片、反射镜等光学元件的镀膜，以改善其透光性、反射率等光学性能。

2. 电子领域：在半导体器件、集成电路、平板显示器等电子产品的制造过程中，用于制备导电膜、绝缘膜、扩散阻挡层等功能性薄膜。

3. 汽车工业：在汽车零部件（如车灯、车窗、车身装饰件等）的制造中，用于增加表面硬度、耐磨性、耐腐蚀性等性能，同时提高美观度。

3 设备特点

批次式溅射设备具有以下显著特点：

1. 高效性：能够同时处理多个基片或大面积基片，显著提高生产效率。

2. 均匀性：通过基片旋转装置和精密的靶材安装系统，确保薄膜在基片表面的均匀分布。

3. 灵活性：可更换不同材质的靶材，以制备不同种类的薄膜，满足不同工艺需求。

4. 可控性：配备有先进的控制系统，可精确控制溅射过程中的各项参数（如电压、电流、气体流量等），以获得所需的薄膜性能。

4 技术参数和特点：

批次式溅射设备SV系列

SV系列为纵型batch式溅射设备。为可以处理大量基板的回转型设备。

SV-4540、6040、9045为回转型设备基板装载量大、适用于小~中规模的生产或少量多品种的生产

各种基板上的电膜成膜、绝缘膜、电介质膜成膜