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批次式溅射设备

简要描述:批次式溅射设备SV系列

SV系列为纵型batch式溅射设备。为可以处理大量基板的回转型设备。

  • 产品型号:SV系列
  • 厂商性质:经销商
  • 更新时间:2024-09-06
  • 访  问  量: 183

详细介绍

1 产品概述:

   批次式溅射设备通常具有较大的处理腔室,能够同时处理多个基片或大面积基片。设备内部配备有精密的靶材安装系统、基片旋转装置、真空系统以及控制系统等关键部件。在工作时,设备首先通过真空系统抽除腔室内的空气,达到所需的真空度,然后通入工作气体(如氩气)并施加电压,使气体电离产生高能粒子。这些高能粒子轰击靶材表面,将靶材原子或分子溅射出来,并沉积在旋转的基片表面,形成均匀的薄膜。

2 设备用途:

批次式溅射设备在多个领域具有广泛的应用,主要包括:

  1. 光学领域:用于制备光学镜片、滤光片、反射镜等光学元件的镀膜,以改善其透光性、反射率等光学性能。

  2. 电子领域:在半导体器件、集成电路、平板显示器等电子产品的制造过程中,用于制备导电膜、绝缘膜、扩散阻挡层等功能性薄膜。

  3. 汽车工业:在汽车零部件(如车灯、车窗、车身装饰件等)的制造中,用于增加表面硬度、耐磨性、耐腐蚀性等性能,同时提高美观度。

3 设备特点

批次式溅射设备具有以下显著特点:

  1. 高效性:能够同时处理多个基片或大面积基片,显著提高生产效率。

  2. 均匀性:通过基片旋转装置和精密的靶材安装系统,确保薄膜在基片表面的均匀分布。

  3. 灵活性:可更换不同材质的靶材,以制备不同种类的薄膜,满足不同工艺需求。

  4. 可控性:配备有先进的控制系统,可精确控制溅射过程中的各项参数(如电压、电流、气体流量等),以获得所需的薄膜性能。


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技术参数和特点:

批次式溅射设备SV系列

SV系列为纵型batch式溅射设备。为可以处理大量基板的回转型设备。

SV-454060409045为回转型设备基板装载量大、适用于小~中规模的生产或少量多品种的生产

各种基板上的电膜成膜、绝缘膜、电介质膜成膜




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