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无掩模光刻机

简要描述:μMLA无掩模光刻机是先进的无模板技术,建立在著名的 μPG 平台之上,该平台是台式无模板系统。

  • 产品型号:μMLA
  • 厂商性质:经销商
  • 更新时间:2024-09-05
  • 访  问  量: 131

详细介绍

1. 产品概述:

台式 μMLA 系统是先进的无模板技术,建立在的 μPG 平台之上,该平台是全球高的台式无模板系统。它是一款入门研发(R&D)工具,几乎适用于任何需要微结构的应用。典型的例子有微流控(细胞分选装置、芯片实验室)、小规模掩模写入、微光学和微透镜阵列、传感器、MEMS、接触式二维材料和扇出电等。

μMLA是一种灵活且可定制的工具,并提供两种曝光模式。标准μMLA使用光栅扫描曝光模式进行曝光,该模式速度快,可提供出色的图像质量和保真度,而写入时间与图案密度的结构大小无关。可选的矢量扫描模式旨在以更快、更准确的方式对连续平滑的曲线(如波导)进行图案化。三种光学设置提供了可变分辨率和吞吐量的选择。每种配置都允许在不同的分辨率和速度配置之间轻松切换,以优化给定应用的曝光。拉伸模式可以对现有结构进行直接的临时修改,并可以与纳米线或 2D 材料进行电接触。灰度曝光模式允许创建复杂的 2.5 结构,例如微光学设备。μMLA占地面积小,可放在普通桌子上。


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