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原子层沉积(ALD)

简要描述:FlexAL系统可提供远程等离子体原子层沉积(ALD),这为纳米结构和器件的工程设计提供了一系列新的灵活性和可行性。ALD产品家族涵盖的系列设备可以满足学术界、企业研发和小规模生产的多种需求。

  • 产品型号:FlexAL
  • 厂商性质:经销商
  • 更新时间:2024-08-12
  • 访  问  量: 108

详细介绍

  • 在同一设备中可灵活使用远程等离子体与热ALD

  • 集群式配置保证始终于真空下传送衬底

  • 盒式对盒式操作可提高产能以适于量产

  • 对材料和气体/液体源的选择具有更大的灵活性

  • 等离子体ALD可进行低温工艺

  • 使用远程等离子体以确保低损伤

  • 通过配方驱动的软件界面实现可控的和可重复的工艺

  • 可处理高达200mm的晶圆


  • 牛津仪器有大量的工艺储备,并且还在不断开发新的工艺。我们为所有的ALD设备提供延续不断的工艺支持,我们还将为您提供关于开发新材料的建议,同时继续与您共享包括新工艺配方在内的新的ALD工艺进展。

  • 气体/液体源前驱体模式上 - 一体化手套箱 —— 实时转换

  • 一体化端口 - 允许添加实时椭偏仪测量工具

  • 集群式配置 - 始终于真空下传送衬底

  • 盒式对盒式操作 - 可提高产能以适于量产

  • 机器手臂与片盒式 - 可处理100mm,150mm或200mm晶圆(无需额外设备进行晶圆交换)

  • 所有系统都可以放置于超净间内或嵌入墙体 - 易于放置

  • 自动化的200mm晶圆真空传送 - 工艺灵活性




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