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| 写入模式 | 我 | 第二 | 第三 | 四 | V |
|---|---|---|---|---|---|
| 写作性能 - 灰度 | |||||
| 覆盖层 [3σ， nm]（超过 8“ x 8"） | 300 | ||||
| 像素网格灰度 [nm] | 100 | 200 | 250 | 500 | 1000 |
| 写入速度 DWL 2000 GS [mm2/分钟] | 12 | 50 | 75 | 270 | 870 |
| 写入速度 DWL 4000 GS [mm2/分钟] | 12 | 50 | 75 | 270 | 1000 |
| 暴露时间 DWL 2000 GS：适用于 200 mm x 200 mm [小时] | 51 | 13.5 | 9 | 2.5 | 0.8 |
| 曝光时间 DWL 4000 GS：适用于 400 mm x 400 mm [小时] | 223 | 54 | 36 | 10 | 3 |
| 最大剂量 [mJ/cm2 ] | 5600 | 1400 | 900 | 225 | 50 |
| 写入性能 - 二进制 | |||||
| 最小特征尺寸 [μm] | 0.5 | 0.7 | 0.8 | 1 | 2 |
| 最小行数和间距 [μm] | 0.7 | 0.9 | 1 | 1.5 | 3 |
| 地址网格 [nm] | 5 | 10 | 12.5 | 25 | 50 |
| 边缘粗糙度 [3σ， nm] | 40 | 50 | 60 | 80 | 110 |
| CD均匀度 [3σ， nm] | 60 | 70 | 80 | 130 | 180 |
| 注册 [3σ， nm] | 200 | 200 | 200 | 200 | 200 |
| 写入速度 [mm²/minute] DWL 2000 GS | 12 | 50 | 75 | 270 | 870 |
| 写入速度 [mm²/minute] DWL 4000 GS | 12 | 50 | 75 | 270 | 1000 |
| 系统特点 | |
|---|---|
| 光源 | 405 nm 的二极管激光器 |
| 最大基板尺寸 | DWL 2000 GS：9 英寸 x 9 英寸 / DWL 4000 GS：17 英寸 x 17 英寸 |
| 基板厚度 | 0 至 12 mm |
| 最大曝光面积 | DWL 2000 GS：200 x 200 平方毫米 / DWL 4000 GS：400 x 400 平方毫米 |
| 温控流量箱 | 温度稳定性 ± 0.1°，ISO 4 环境 |
| 实时自动对焦 | 光学自动对焦或气压计自动对焦 |
| 自动对焦补偿范围 | 80微米 |
| 系统尺寸 | |
| 光刻单元 （宽度×深度×高度）;重量 | 2350 毫米× 1650 毫米× 2100 毫米;3000 千克 |
| 电子架 （宽度×深度×高度）;重量 | 800 毫米× 600 毫米× 1800 毫米;180 千克 |
| 安装要求 | |
| 电气 | 400 VAC ± 5 %， 50/60 赫兹， 16 A |
| 压缩空气 | 6 - 10 巴 |
| 洁净室 | 建议使用 ISO 6 或更高 |
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