有掩膜光刻机

简要描述：VPG 200 / VPG 400 体积图形发生器是光刻系统，专为 i-line 光刻胶的多用途掩模制造而设计。它们支持所有标准的中小型面罩尺寸，最大尺寸为 410 x 410 mm++2.应用包括 MEMS 掩模制造、先进封装、3D 集成、LED 和 OLED 掩模以及微流体。

VPG 具有经过现场验证的超高速曝光引擎和高功率 DPSS 激光器。其技术将高分辨率、准确性和出色的图像质量与高吞吐

产品型号：VPG 200 / VPG 400
厂商性质：经销商
更新时间：2024-09-04
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1. 产品概述：

VPG 200 / VPG 400 体积图形发生器是光刻系统，为 i-line 光刻胶的多用途掩模制造而设计。它们支持所有标准的中小型面罩尺寸，大尺寸为 410 x 410 mm++2.

写入模式	I-QX系列	一代	二代	三代
写作表现
小结构尺寸 [μm]	0.75	0.75	1	2
小行数和间距 [μm]	1.5	1.5	2	4
地址网格 [nm]	12.5	12.5	25	50
边缘粗糙度 [3σ， nm]	30	40	50	70
CD均匀度 [3σ， nm]	55	65	75	110
拼接稳定性 [3σ， nm]	30	60	70	100
第 2 层对准 [nm]	225	225	350	500
写入速度 [mm²/min]	485	970	3150	6400
100 x 100 mm 的曝光时间2面积 [min]	28	14	5.6	3.5

系统特点
光源	355 nm 的高功率 DPSS 激光器
大基板尺寸	9 英寸 x 9 英寸/17 英寸 x 17 英寸
基板厚度	0 至 12 mm （可根据要求提供其他厚度）
大曝光面积	205 x 205 毫米2/ 410 x 410 毫米2
自动对焦	实时自动对焦系统（光学和气动）
自动对焦补偿范围	高达 80 μm
流量箱	（闭环）温控环境试验箱
对准	用于测量和对准的相机系统和软件包
其他功能和选项	2D载物台贴图和数据、Mura校正、边缘检测器、多种数据输入格式（DXF、CIF、GDSII、Gerber等）、可选的自动掩模处理、可选的Zerodur®载物台和特殊卡盘

系统尺寸
	系统 / 电子机架
宽度 [mm]	2605 / 800
深度 [mm]	1652 / 650
高度 [mm]	2102 / 1800
重量 [kg]	3550 / 180

安装要求
电气	400 VAC ± 5 %， 50/60 Hz， 16 A， 3 相
压缩空气	6 - 10 巴