激光掩模光刻机

简要描述：ULTRA激光掩模光刻机是专门用于成熟半导体光掩模的合格激光掩模机。半导体光掩模用于制造电子设备，包括微控制器、电源管理、LED、物联网（IoT）和 MEMS。

ULTRA 是一种经济型光刻机解决方案，具有高吞吐量、精度和结构均匀性以及极其精确的对准所需的所有特性和功能。标准配置包括全自动掩模处理、Zerodur® 平台、低失真光学元件和高精度位置控制等功能。

产品型号：ULTRA
厂商性质：经销商
更新时间：2024-09-04
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产品概述：

ULTRA半导体光掩模光刻机是门用于成熟半导体光掩模的合格激光掩模机。半导体光掩模用于制造电子设备，包括微控制器、电源管理、LED、物联网（IoT）和 MEMS。

操作
用户界面（软件）	半兼容 GUI
大写入区域	228 x 228 mm² （可根据要求提供其他尺寸）
基板尺寸	4 英寸、5 英寸、6 英寸、7 英寸和 9 英寸口罩（可根据要求提供更大的和其他基材）

系统特点
光学	0.9 NA物镜低失真紫外光学元件自动校准程序
激光	355nm波长的高功率二管泵浦固体激光器
对焦系统	实时光学自动对焦
对准	摄像系统失真补偿全局和逐场对准边缘检测器
数据路径	实时压缩可扩展的硬件概念输入格式：所有标准格式，例如 GDSII 和 Jobdeck
空间光调制器	频率 350 kHz 数据速率 2.4 GB/s
自动化	全自动口罩处理，带两个大 9 英寸的输送站;可选的 SECS/GEM 协议

系统尺寸	系统 / 电子机架
宽度 [mm]	2995 / 800
深度 [mm]	1652 / 650
高度 [mm]	2102 / 1800
重量 [kg]	3400 / 180

安装要求
电气	400 VAC ± 5%，50/60 Hz，16A，3 相
压缩空气	7 - 10 bar （不含油或其他残留物）