欢迎来到深圳市矢量科学仪器有限公司网站!
咨询热线

19842703026

当前位置:首页  >  产品中心  >  半导体前道工艺设备  >  2 PVD  >  Ionfab 300 IBD离子束沉积

离子束沉积

简要描述:离子束沉积产品是因为它们能够生产具有高质量,致密和表面光滑的沉积薄膜。离子束技术提供了一种多样的刻蚀和沉积的方法,并可在同一设备上实现, 因而提高系统的利用率。我们的设备具有灵活的硬件选项,包括直开式、单衬底传送模式和盒式对盒式模式。系统规格与实际应用紧密协调,以确保获得速率更快且重复性更好的工艺结果。

  • 产品型号:Ionfab 300 IBD
  • 厂商性质:经销商
  • 更新时间:2024-08-12
  • 访  问  量: 118

详细介绍

  • 多模式功能

  • 能够与其它等离子体刻蚀和沉积设备相集成

  • 单晶圆传送模式或集群式晶圆操作

  • 双束流配置

  • 更低的表面薄膜粗糙度

  • 更佳的批次均匀性和工艺重复性

  • 准确终点监测 —— SIMS,发射光谱

    产品特点

  • 质量薄膜高 ——超低污染

  • 产量高,紧凑的系统体积设计­——运行成本低

  • 高速衬底架(高达1000RPM)设计,并配备了白光光学监视器(WLOM)——更为精确的实时光学薄膜控制

  • 配置灵活 ——适于先进的研究应用

  • 灵活的晶圆操作方式 —— 直开式、单晶圆传送模式或者带机械手臂的盒对盒模式

    应用

  • 磁阻式随机存取存储器(MRAM)

  • 介电薄膜

  • III-V族光电子材料刻蚀

  • 自旋电子学

  • 金属电极和轨道

  • 超导体

  • 激光端面镀膜

  • 高反射(HR)膜

  • 防反射(AR)膜

  • 环形激光陀螺反射镜

  • X射线光学系统

  • 红外(IR)传感器

  • II-VI族材料

  • 通信滤波器




产品咨询

留言框

  • 产品:

  • 您的单位:

  • 您的姓名:

  • 联系电话:

  • 常用邮箱:

  • 省份:

  • 详细地址:

  • 补充说明:

  • 验证码:

    请输入计算结果(填写阿拉伯数字),如:三加四=7
Baidu
map