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多模式功能
能够与其它等离子体刻蚀和沉积设备相集成
单晶圆传送模式或集群式晶圆操作
双束流配置
更低的表面薄膜粗糙度
更佳的批次均匀性和工艺重复性
准确终点监测 —— SIMS,发射光谱
产品特点
质量薄膜高 ——超低污染
产量高,紧凑的系统体积设计——运行成本低
高速衬底架(高达1000RPM)设计,并配备了白光光学监视器(WLOM)——更为精确的实时光学薄膜控制
配置灵活 ——适于先进的研究应用
灵活的晶圆操作方式 —— 直开式、单晶圆传送模式或者带机械手臂的盒对盒模式
应用
磁阻式随机存取存储器(MRAM)
介电薄膜
III-V族光电子材料刻蚀
自旋电子学
金属电极和轨道
超导体
激光端面镀膜
高反射(HR)膜
防反射(AR)膜
环形激光陀螺反射镜
X射线光学系统
红外(IR)传感器
II-VI族材料
通信滤波器
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