PEARD系统

PEALD 实现最佳薄膜均匀性 < 1 %

SENTECH SILAYO 等离子体增强原子层沉积 （PEALD） 系统设计用于在大型 3D 物体和小基材批次上进行保形和均匀光学镀膜。SENTECH专有的平面三重螺旋天线（PTSA）为均匀的光学镀膜提供均匀的等离子体。

直径达 330 mm、高度达 100 mm 的样品

SENTECH SILAYO PEALD系统能够均匀包被直径达330 mm、垂直尺寸达100 mm的样品。

使用射频偏置进行应力控制

可选的射频偏置衬底电极允许修改层属性（例如应力和折射率）

SENTECH SILAYO PEALD系统设计用于在大型和3D形状的基材上沉积材料，特别适用于对层性能要求高的光学镀膜，例如厚度和成分控制的高精度，光滑的表面和尖锐的界面，应力控制，特别是高厚度的多层堆叠，3D形状上的高均匀性和保形性，以及降低沉积温度以实现低损伤加工。

该系统可以选择配备SENTECH AL实时监测仪的专有技术，用于原位监测。

SENTECH SILAYO由先进的硬件和SENTECH SIA软件控制，具有客户端-服务器架构。一个经过充分验证的、可靠的可编程逻辑控制器（PLC）用于所有组件的实时控制。