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1.产品概述：
本沉积系统可用于制备光学薄膜、电学薄膜、磁性薄膜、硬质保护薄膜和装饰薄膜等，工艺性能稳定、模块化结构，采用行业的软件控制系统。
2.设备特点：
本设备是一个镀膜平台，可把磁控靶拆下换电子枪成为电子束镀膜系统、或换蒸发源作为热蒸发系统、或换上离子枪作为离子束镀膜系统等。
设备用途：用于纳米单层及多层功能膜、硬质膜、金属膜、半导体膜、介质膜等新型薄膜材料的制备。可广泛应用于大院校、科研院所的薄膜材料的科研项目。
3.真空室：
真空室结构:方形开门
真空室尺寸:φ500x500x500mm
限真空度:≤3.0E-5Pa
沉积源:永磁靶4套，φ2英寸
样品尺寸，温度:φ4英寸，1片，高800℃
占地面积（长x宽x高）:约2米×1.7米×2米
电控描述:全自动
工艺:具备计算机化的工艺自动化功能。
片内膜厚均匀性：≤±3%
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