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高真空磁控溅射薄膜沉积系统

简要描述:产品概述:
高真空磁控溅射薄膜沉积系统可用于制备光学薄膜、电学薄膜、磁性薄膜、硬质保护薄膜和装饰薄膜等,工艺性能稳定、模块化结构,采用行业的软件控制系统。

设备用途:
可广泛应用于大专院校、科研院所的薄膜材料的科研项目。

  • 产品型号:TRP450
  • 厂商性质:经销商
  • 更新时间:2024-09-05
  • 访  问  量: 172

详细介绍

1.产品概述:
本沉积系统可用于制备光学薄膜、电学薄膜、磁性薄膜、硬质保护薄膜和装饰薄膜等,工艺性能稳定、模块化结构,采用行业的软件控制系统。
2.设备用途:
可广泛应用于大院校、科研院所的薄膜材料的科研项目。
3.用户评价:
TRP-450高真空镀膜机其设备质量过关,功能齐全,性能稳定,自动化程度高,抽气速平稳,电源稳定可靠,气路流畅密闭,镀膜质量平整光滑,均匀致密,结合力强,且系统操控智能,便捷,可满足科研实验与生产制造的需求,是一款优秀的磁控溅射镀膜系统。——北京石墨烯技术研究院有限公司 李老师
4.真空室:

真空室结构:圆筒形开门
真空室尺寸:φ450x400mm
限真空度:≤6.6E-6Pa
沉积源:永磁靶3套,φ2英寸,可以向上溅射或向下溅射。
样品尺寸,温度:φ4英寸,1片,高800℃
占地面积(长x宽x高):约1米×1.8米×2米
电控描述:全自动
工艺:片内膜厚均匀性:≤±3%


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