高真空磁控溅射薄膜沉积系统

简要描述：产品概述：
高真空磁控溅射薄膜沉积系统可用于制备光学薄膜、电学薄膜、磁性薄膜、硬质保护薄膜和装饰薄膜等，工艺性能稳定、模块化结构，采用行业的软件控制系统。

设备用途：
用于纳米级单层及多层功能膜、硬质膜、金属膜、半导体膜、介质膜等新型薄膜材料的制备。可广泛应用于大专院校、科研院所的薄膜材料的科研项目。

产品型号：JGP450
厂商性质：经销商
更新时间：2024-09-05
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详细介绍

1.产品概述：
本沉积系统可用于制备光学薄膜、电学薄膜、磁性薄膜、硬质保护薄膜和装饰薄膜等，工艺性能稳定、模块化结构，采用行业的软件控制系统。
2.设备用途：
用于纳米单层及多层功能膜、硬质膜、金属膜、半导体膜、介质膜等新型薄膜材料的制备。可广泛应用于大院校、科研院所的薄膜材料的科研项目。

3.真空室结构:

圆筒形上升盖尺寸例如φ450×350mm，采用不锈钢材料制造，可进行内烘烤，接口处采用金属垫圈或氟橡胶圈密封。

真空室尺寸:φ450×350mm

限真空度:≤6.0E-5Pa包括分子泵和机械泵，通过超高真空闸板阀主抽，并设有旁路抽气

沉积源:永磁靶3套，φ2英寸

样品尺寸，温度:φ2英寸,6片; φ4英寸,1片; 高800℃

占地面积（长x宽x高）:约2米×1.5米×2米

电控描述:全自动

工艺:片内膜厚均匀性：≤±3%

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