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1.产品概述：
本沉积系统可用于制备光学薄膜、电学薄膜、磁性薄膜、硬质保护薄膜和装饰薄膜等，工艺性能稳定、模块化结构，采用行业的软件控制系统。
2.产品优势：
用于纳米单层及多层功能膜、硬质膜、金属膜、半导体膜、介质膜等新型薄膜材料的制备。可广泛应用于大院校、科研院所的薄膜材料的科研项目。
该系统可用于纳米单层及多层功能膜、硬质膜、金属膜、半导体膜、介质膜等新型薄膜材料的制备。广泛应用于大院校、科研院所的薄膜材料科研工作。
3.产品工艺：
真空室结构:梨形上升盖
真空室尺寸:φ550×350mm
限真空度:≤6.6E-6Pa（经烘烤除气后）
沉积源:永磁靶5套，φ2英寸配有多个靶位，例如 5 个 2 英寸磁控溅射靶接
样品尺寸，温度:φ2英寸,6片; φ4英寸,1片; 高800℃
占地面积（长x宽x高）:约3米×1.1米×2米
电控描述:全自动
工艺:片内膜厚均匀性：≤±3%
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