高真空电子束及热阻蒸发薄膜沉积系统

1. 产品概述：

主要由蒸发真空室、e 型电子枪、热阻蒸发组件、旋转基片加热台、工作气路、抽气系统、真空测量、安装机台及电控系统等部分组成，具备自动控制软件系统。

2. 设备用途/原理：

沈阳科仪 DZS500 系统用途广泛。电子束蒸发可以蒸发高熔点材料，比一般电阻加热蒸发热效率高、束流密度大、蒸发速度快，制成的薄膜纯度高、质量好，厚度可以较准确地控制，可以广泛应用于制备高纯薄膜和导电玻璃等各种光学材料薄膜。在科研领域，它常用于材料研究和新型器件的开发；在工业生产中，可用于大规模制造高质量的薄膜产品。例如，在制造液晶显示器的导电薄膜时，能够保证薄膜的导电性和均匀性，提高产品的性能和质量。

3. 特色参数：

o 真空室结构：采用 U 形前开门。

o 真空室尺寸：500x500x600mm。

o 极限真空度：≤6.67e-5Pa。

o 沉积源：4 个 11cc 坩埚。

o 样品尺寸与温度：可放置 φ4 英寸的 1 片样品，最高温度可达 800℃。

o 占地面积：约 2.7 米 x1.7 米 x2.1 米。

o 电控描述：全自动。

o 工艺：片内膜厚均匀性≤±3%。

o 特色参数：样品可自转，转速可调。

4. 设备特点

沈阳科仪 DZS500 系统的真空室具有一些显著特点。其极限真空度表现出色，通常能够达到≤6.67×10⁻⁵ Pa（经烘烤除气后）。停泵关机 12 小时后，蒸发室真空度≤5Pa，这表明其真空保持能力较强。真空室的结构通常为 U 形前开门，尺寸一般为 500×500×600mm。这种设计不仅方便操作，还有利于维持真空环境的稳定性。在实际应用中，良好的真空室特点能够为薄膜沉积提供高质量的真空条件，减少杂质和气体对薄膜质量的影响。比如在制备高精度光学薄膜时，稳定的真空环境能够确保薄膜的均匀性和纯度。