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当前位置:首页  >  产品中心  >  半导体前道工艺设备  >  3 CVD  >  AIX G5 WW C化合物半导体沉积系统

化合物半导体沉积系统

简要描述:化合物半导体沉积系统AIX G5 WW C“下一代碳化硅电力电子器件的最佳性能,以应对全球大趋势"高吞吐量批量外延与单晶圆控制 - 两全其美。

  • 产品型号:AIX G5 WW C
  • 厂商性质:经销商
  • 更新时间:2024-08-13
  • 访  问  量: 139

详细介绍

主要优点

  • 吞吐量和每片晶圆拥有成本

  • 批量配置中的单片性能,可实现出色的外延层质量

  • 兼容硅晶圆厂的自动化技术支持碳化硅电源市场加速增长

产品特点

  • 带热晶圆转移的行星式反应器

  • 在生长室中高效利用气体

  • 晶圆级温度控制

  • 晶圆盒到晶圆盒处理

  • 快速外延处理

  • 8x150 mm 配置,单晶圆旋转

  • AutoSat功能,确保批次内的均匀性

  • SECS-GEM工厂接

主要优点

  • 吞吐量和每片晶圆拥有成本

  • 批量配置中的单片性能,可实现出色的外延层质量

  • 兼容硅晶圆厂的自动化技术支持碳化硅电源市场加速增长

产品特点

  • 带热晶圆转移的行星式反应器

  • 在生长室中高效利用气体

  • 晶圆级温度控制

  • 晶圆盒到晶圆盒处理

  • 快速外延处理

  • 8x150 mm 配置,单晶圆旋转

  • AutoSat功能,确保批次内的均匀性

  • SECS-GEM工厂接口





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