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原子层沉积

简要描述:市场和应用
用于电池、太阳能和柔性电子产品的功能性原子层沉积涂层。 Genesis ALD 是涂布任何卷筒格式基材以及多种功能应用的理想选择。

各种类型锂离子和固态电池的阴极和阳极的钝化
用于柔性太阳能电池的导电层和封装
用于柔性电子产品的防潮层

  • 产品型号:捷尼赛思
  • 厂商性质:经销商
  • 更新时间:2024-08-12
  • 访  问  量: 105

详细介绍

材料选择

多种 ALD 材料可供选择,可满足您的要求。 多年来,Beneq 一直是用于研发和工业生产的卷对卷原子层沉积系统的先驱。我们的常用材料包括 Al₂O₃、TiO₂、ZnO、ZnS、SiO₂ 或可根据要求提供的任何其他材料。

功能亮点

  • 卷筒纸宽度:最大420mm

  • ALD镀膜厚度:最大100nm

  • 动态沉积速率 (Al2O3): 10 nm *m/min

  • 过程温度:最高 250°C

定制

在最大420mm的卷筒纸宽度下,Genesis ALD适用于实验室研发或中试规模生产。 设计用于将 ALD 薄膜处理到聚合物或金属等柔性基材上。通过与我们的合作伙伴 E+R Group(卷对卷真空镀膜机公司)合作,我们为客户提供更宽的卷筒纸和生产线集成的可选设计。

市场和应用

用于电池、太阳能和柔性电子产品的功能性原子层沉积涂层。 Genesis ALD 是涂布任何卷筒格式基材以及多种功能应用的理想选择。

  • 各种类型锂离子和固态电池的阴极和阳极的钝化

  • 用于柔性太阳能电池的导电层和封装

  • 用于柔性电子产品的防潮层




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