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当前位置:首页  >  产品中心  >  半导体前道工艺设备  >  1 光刻设备  >  KS-FT200/300 前道8/12寸涂胶显影机

涂胶显影机

简要描述:KS-FT200/300系列堆叠式高产能前道涂胶显影机,为我司自主研发的突破晶圆前道28nm工艺节点及以上工艺制程,适用于ArF、KrF、I-Line、PI、BARC,SOC,SOD,SOG等多种材料涂覆显影工艺的机台。支持与光刻机联机作业。该系列机台通过各种行业认证,占地面积小、可靠性高、易于维护,满足各种功能芯片制程需求。

  • 产品型号:KS-FT200/300 前道8/12寸
  • 厂商性质:经销商
  • 更新时间:2024-09-04
  • 访  问  量: 137

详细介绍

1.产品概述:
KS-FT200/300系列堆叠式高产能道涂胶显影机,为我司自主研发的突破晶圆道28nm工艺节点及以上工艺制程,适用于ArF、KrF、I-Line、PI、BARC,SOC,SOD,SOG等多种材料涂覆显影工艺的机台。支持与光刻机联机作业。该系列机台通过各种行业认证,占地面积小、可靠性高、易于维护,满足各种功能芯片制程需求。

2.产品优势:

1. 堆叠式高产能架构,占地面积小

2. 可与光刻机联机,满足工厂自动化需求

3. 配备多段回吸的多腔体共用供胶系统,有效节省光刻胶的用量

4. 选配高精度热板、WEE、AOI等单元部件,满足更高标准工艺需求

5. 核心单元模块化设计,组合方式灵活多变,大限度客制化

3.应用域:

● 逻辑电路

● CMOS射频电路

● 功率器件

● MEMS系统芯片

● 闪存内存                                    

● CIS

● 驱动芯片

● OLED等          





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