涂胶与显影机

ACS300 Gen2 是一个模块化集群系统，旨在满足制造商对 200 和 300 毫米晶圆的清洁、可靠、高吞吐量和模块化光刻处理的需求。两种晶圆尺寸都可以并行或顺序处理，无需任何机械转换。SUSS MicroTec ACS300 Gen2 系统可配备用于 HMDS 蒸汽灌注、旋涂、喷涂、水性或溶剂型显影、烘焙和冷却的工艺模块。它适用于薄光刻胶和厚光刻胶应用以及聚酰亚胺、PBO 和环烯 （BCB） 等光敏聚合物。

SUSS MicroTec ACS300 Gen2 满足了复杂光刻胶加工的所有要求，尤其是 3D 集成和晶圆级封装技术。

ACS300 Gen2允许从研发/中试生产到批量生产阶段的灵活生产计划。占地面积小的配置配有 2 个负载端口模块，直接连接到基本框架，从而保证了最佳的拥有成本。通过单独的 EFEM，该机器可以配备 4 个装载端口模块。它配备了高精度 6 轴机器人和基于摄像头的定心。凭借GYRSET的特性，可以在工艺碗中生产高度均匀的光刻胶层，厚度从1μm以下到100μm以上。

ACS300 Gen2 可以与 MA300 Gen2 接近掩模对准器连接，形成集成的 LithoPack300 集群。