等离子增强化学气相沉积PECVD

1. 产品概述

PlasmaPro 800是一款先进的等离子增强化学气相沉积（PECVD）设备，专为大批量晶圆和300mm晶圆的生产需求而设计，提供了灵活且高效的处理解决方案。它引入了紧凑的开放式装载系统，使得操作更加便捷，同时提升了生产效率，适应各种制造环境。

该设备配备了460mm直径的工作台，具备处理整片300mm晶圆的能力，同时能够高效处理大批量的43 x 50mm（2"）小晶圆，通过这一设计，PlasmaPro 800能够满足不同尺寸晶圆的生产需求，为用户提供全面的量产解决方案。这种高适应性的特点让用户能够灵活应对不断变化的市场需求，特别是在大规模生产环境中表现尤为突出。

此外，PlasmaPro 800以其出色的性能和可靠性赢得了市场的广泛认可。它支持多种材料的沉积工艺，能够应用于诸如光电设备、微电子器件、MEMS等多个领域，为客户的创新研发和产品制造提供强大动力。

综合来看，PlasmaPro 800不仅在技术上实现了突破，还通过其灵活的配置和高效的操作方式，将大批量晶圆的生产推向新的高度，为半导体产业的可持续发展提供了坚实的基础。

2. 特色参数

高性能工艺

准确的衬底温度控制

准确的工艺控制

成熟的300mm单晶圆失效分析工艺

3. 为化合物半导体、光电子和光子学应用提供了更为灵活的工艺，PlasmaPro 800 可提供：

大型电 - 低成本

刻蚀终点监测 - 可靠性和可维护性俱佳

通过激光干涉仪与/或发射光谱进行终点监测 - 增强刻蚀控制

可选择带有4-、8-或12-条气路的气柜 - 可提供灵活的工艺和工艺气体，可以与主机分离，放置在远端服务区

近距离耦合涡轮泵 - 提供优秀的泵送速度加快气体的流动速度

数据记录 - 追溯腔室的历史状态以及工艺条件

液体冷却和/或电加热电 - 出色的电温度控制和稳定性