高真空蒸发镀膜设备

1.设备概述

EC400高真空蒸发镀膜设备是一台高精度的蒸发镀膜设备，主要用于在物体表面形成一层均匀的薄膜，以改变物体的性质和外观。该设备利用高真空环境下的物理过程，将金属材料蒸发成气体，并在物体表面沉积形成薄膜。

2.主要组成部分

真空室：用于提供高真空环境，确保蒸发源和物体表面之间没有气体分子的干扰。

蒸发源：内置金属材料（如铜、铝、银、金等），通过加热使其蒸发成气体。

膜厚监测仪：用于实时监测薄膜的厚度，确保薄膜质量符合要求。

样品台：用于放置待处理的物体，确保其在镀膜过程中的稳定性和位置准确性。

真空获得系统：包括真空泵等组件，用于将真空室抽成高真空状态。

真空测量系统：用于测量真空室内的气体压力等参数，确保设备的安全运行。

气路系统：用于向真空室内通入工艺气体，如氮气等，以调节镀膜环境。

PLC+触摸屏自动控制系统：实现设备的自动化控制和操作，提高工作效率和镀膜质量。

3.技术特点

高真空环境：确保蒸发源和物体表面之间没有气体分子的干扰，提高镀膜质量。

高精度控制：通过PLC+触摸屏自动控制系统，实现蒸发源加热温度、沉积时间等参数的精确控制。

多功能性：可制备多种类型的薄膜，如金属薄膜、氧化物薄膜、氮化物薄膜等。

结构紧凑：设备主机与控制一体化设计，操控方便；结构紧凑，占地面积小。

4.应用域

EC400高真空蒸发镀膜设备在多个域具有广泛的应用，包括但不限于：

纳米薄膜制备：用于开发纳米单层、多层及复合膜层等。

材料科学：制备金属膜、合金膜、半导体膜、陶瓷膜及介质膜等，如银、铝、铜、C60、BCP等材料的薄膜。

高校与科研院所：用于教学、科研实验及新产品开发等。

工业生产：在钙钛矿太阳能电池、OLED、OPV太阳能电池等行业中，用于制备高质量的薄膜材料。