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高真空蒸发镀膜设备

简要描述:EC400真空热蒸镀膜仪是一款功能全面的高真空蒸发镀膜设备,专为薄膜制备与研究设计。其核心组件包括真空室、蒸发源、膜厚监测仪、样品台、真空获得与测量系统、气路系统,以及先进的PLC+触摸屏自动控制系统。该设备采用一体化设计,将主机与控制单元紧密结合,不仅操作简便,而且结构紧凑,占地面积小,非常适合实验室环境使用。

  • 产品型号:EC400
  • 厂商性质:经销商
  • 更新时间:2024-09-05
  • 访  问  量: 97

详细介绍

1.设备概述

EC400高真空蒸发镀膜设备是一台高精度的蒸发镀膜设备,主要用于在物体表面形成一层均匀的薄膜,以改变物体的性质和外观。该设备利用高真空环境下的物理过程,将金属材料蒸发成气体,并在物体表面沉积形成薄膜。

2.主要组成部分

真空室:用于提供高真空环境,确保蒸发源和物体表面之间没有气体分子的干扰。

蒸发源:内置金属材料(如铜、铝、银、金等),通过加热使其蒸发成气体。

膜厚监测仪:用于实时监测薄膜的厚度,确保薄膜质量符合要求。

样品台:用于放置待处理的物体,确保其在镀膜过程中的稳定性和位置准确性。

真空获得系统:包括真空泵等组件,用于将真空室抽成高真空状态。

真空测量系统:用于测量真空室内的气体压力等参数,确保设备的安全运行。

气路系统:用于向真空室内通入工艺气体,如氮气等,以调节镀膜环境。

PLC+触摸屏自动控制系统:实现设备的自动化控制和操作,提高工作效率和镀膜质量。

3.技术特点

高真空环境:确保蒸发源和物体表面之间没有气体分子的干扰,提高镀膜质量。

高精度控制:通过PLC+触摸屏自动控制系统,实现蒸发源加热温度、沉积时间等参数的精确控制。

多功能性:可制备多种类型的薄膜,如金属薄膜、氧化物薄膜、氮化物薄膜等。

结构紧凑:设备主机与控制一体化设计,操控方便;结构紧凑,占地面积小。

4.应用域

EC400高真空蒸发镀膜设备在多个域具有广泛的应用,包括但不限于:

纳米薄膜制备:用于开发纳米单层、多层及复合膜层等。

材料科学:制备金属膜、合金膜、半导体膜、陶瓷膜及介质膜等,如银、铝、铜、C60、BCP等材料的薄膜。

高校与科研院所:用于教学、科研实验及新产品开发等。

工业生产:在钙钛矿太阳能电池、OLED、OPV太阳能电池等行业中,用于制备高质量的薄膜材料。


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