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当前位置:首页  >  产品中心  >  半导体前道工艺设备  >  1 光刻设备  >  UC100-SE紫外臭氧清洗机

紫外臭氧清洗机

简要描述:这款紫外臭氧清洗机,集成嵌入式控制系统,人性化设计,便捷高效,质量有保障,专业服务,是科研与实验的理想伙伴。

  • 产品型号:UC100-SE
  • 厂商性质:经销商
  • 更新时间:2024-09-06
  • 访  问  量: 105

详细介绍

1.基本参数

品牌与型号:LEBO/雷博,UC100-SE

产地:中国江苏江阴

额定电压:AC220V,50Hz

灯管功率:多为300W,也有资料提及为275W(具体以实际产品为准)

灯管寿命:≥8000小时

灯管形状:U型或G型(不同来源信息可能略有差异)

灯管光谱:185nm+254nm或184nm+254nm(不同来源信息可能略有差异)

清洗面积:≤8寸

外型尺寸:大致为330mm(W)×400~420mm(D)×315mm(H)(不同来源信息可能略有差异)

产品重量:约为15~16kg

2.功能与特性

高效清洗:通过VUV低压紫外汞灯发射的185nm和254nm波长的紫外光,直接打开和切断有机物分子中的共价键,使其活化并分解成离子、游离态原子等,同时生成臭氧和活性氧原子,通过氧化反应清除粘附在物体表面上的有机污染物。

集成控制系统:设备采用集成式的嵌入式控制系统,带有LCD点阵液晶显示屏和数字化操作界面,用户操作更加简单直观。

高度调节与误触保护:基片照射高度可无化调节或采用X型调节装置,确保高度调节更加平稳。同时,系统自带误触功能,降低操作失误几率。

风量调速:进风及抽风风扇采用5调速,可根据需要调节风量,确保清洗效果。

人体工程学设计:设备设计符合人体工程学原理,实验操作易上手,使用便捷。

3.应用域

UC100-SE紫外臭氧清洗机广泛应用于多个域,包括但不限于:

LCD、OLED生产:在涂光刻胶、PI胶、定向膜、铬膜、色膜进行光清洗,提高基体表面润湿性和粘合力。

半导体生产:硅晶片涂保护膜、铝蒸发膜进行光清洗,提高粘合力,防止针孔、裂缝的发生。

扫描探测显微镜:用于清洗原子力显微镜探针、扫描探针显微镜标准和其他表面上的油渍层和残留的无机材料。



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