开盖等离子体沉积系统PECVD

1. 产品概述

SENTECH Depolab 200 是基本的等离子体增强化学气相沉积 （PECVD） 系统，适用于沉积用于蚀刻掩模、膜和电隔离膜以及许多其他材料的介电膜。结合了用于均匀薄膜沉积的平行板电极设计的优点和灵活的直接加载设计。从 2 英寸至 200 毫米晶圆和样品片的标准应用开始。

2. 成本效益

该系统将平行板等离子体源设计与直接负载相结合。

3. 可升级性

根据其模块化设计，SENTECH Depolab 200 可升级为更大的泵送装置、用于应力控制的低频电源和额外的燃气管线。

4. 操作软件

用户友好的强大软件包含在 GUI、参数窗口、配方编辑器、数据记录和用户管理中。

5. 灵活性和模块化

SENTECH Depolab 200 PECVD 系统配置为在高达 400 °C 的温度范围内沉积 SiO2、SiNx、SiONx 和 a-Si 薄膜。 该系统特别适用于用于蚀刻掩模、膜、电隔离膜等的介电膜沉积。

SENTECH Depolab 200 由先进的硬件和 SIA 操作软件控制，具有客户端-服务器架构。一个经过充分验证的可靠可编程逻辑控制器（PLC）用于所有组件的实时控制。