离子束沉积设备

简要描述：光掩模制造需要高水平的颗粒控制，同时沉积复杂的多层薄膜结构。Veeco 的 Nexus IBD-LDD 离子束沉积系统可以应对这一挑战。自 1990 年代以来，Veeco 已成功服务于光掩模市场，多年的学习造就了当今先进的系统。IBD-LDD 系统是当今 EUV 掩模坯料上的钼（Mo）和硅（Si）多层沉积和钌（Ru）封端层沉积的理想选择，以及其他需要低缺陷水平和先进薄膜的掩模应用。

产品型号：NEXUS IBD-LDD
厂商性质：经销商
更新时间：2024-09-06
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详细介绍

1.产品概述：

NEXUSIBD-LDD是由VEECCO研发的离子束沉积设备，VEECCO凭借25年来在离子束产品域建立导地位，实现当下无缺陷的EUV掩模空白。

2.产品工艺：

光掩模制造需要高水平的颗粒控制，同时沉积复杂的多层薄膜结构。Veeco的NexusIBD-LDD离子束沉积系统可以应对这一挑战。自1990年代以来，Veeco已成功服务于光掩模市场，多年的学习造就了当先进的系统。IBD-LDD系统是当EUV掩模坯料上的钼（Mo）和硅（Si）多层沉积和钌（Ru）封端层沉积的理想选择，以及其他需要低缺陷水平和先进薄膜的掩模应用。

3.产品优势：

经过生产验证的平台

低的缺陷密度

优异的均匀性和可重复性

高反射率

在同一腔室中沉积多种材料

可以集成到其他过程模块中，集成到集群工具中

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