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金属有机化学气相沉积

简要描述:Propel HVM GaN MOCVD 系统,用于电源、5G 射频和光子学,单晶圆反应器技术为电源、5G 射频和光子学应用提供高效、高质量的氮化镓基器件

  • 产品型号:Propel HVM GaN
  • 厂商性质:经销商
  • 更新时间:2024-09-05
  • 访  问  量: 108

详细介绍

1.产品概述:

Veeco的Propel™HVMGaNMOCVD系统被设计为一种大批量制造单晶圆反应器簇系统,适用于基于GaN的功率、射频和光子器件。采用单晶圆反应器平台,能够在150和200毫米晶圆上产生高质量外延膜性能,以实现均匀性、可重复性和良率。PropelHVM系统可配置多达6个模块化集群室,以实现最大的生产力和灵活性,是客户、铸造厂或IDM业务的理想选择。

2.产品优势

单晶圆反应器基于VeecoTurboDisc®设计,采用突破性技术,包括IsoFlange™和SymmHeat™,可在整个晶圆上提供层流和均匀的温度分布。客户可以轻松地将工艺从Veeco的单晶圆反应器Propel和K465i™系统转移到PropelHVMGaNMOCVD平台,以实现快速开发到生产周期.

Veeco的Propel™HVMGaNMOCVD系统被设计为一种大批量制造单晶圆反应器簇系统,适用于基于GaN的功率、射频和光子器件。采用单晶圆反应器平台,能够在150和200毫米晶圆上产生高质量外延膜性能,以实现均匀性、可重复性和良率。PropelHVM系统可配置多达6个模块化集群室,以实现大的生产力和灵活性,是客户、铸造厂或IDM业务的理想选择。

单晶圆反应器基于VeecoTurboDisc®设计,采用突破性技术,包括IsoFlange™和SymmHeat™,可在整个晶圆上提供层流和均匀的温度分布。客户可以轻松地将工艺从Veeco的单晶圆反应器Propel和K465i™系统转移到PropelHVMGaNMOCVD平台,以实现快速开发到生产周期



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